发明名称 |
度量衡装置,微影装置及测量基板特性的方法 |
摘要 |
本发明揭示一种经组态以测量一基板之一特性的度量衡装置。该度量衡装置包括:一照明系统,该照明系统经组态以调节一辐射光束;一接物镜,该接物镜经组态以将辐射投影至该基板上;一侦测器,该侦测器经组态以侦测自该基板之一表面所反射的辐射;及一影像场选择器件,该影像场选择器件在该经反射辐射之路径中,该影像场选择器件经建构及配置以选择与该基板相关联之一影像场的一区域。该选定区域与该基板之一预定部分对应。此配置可实现该基板上之目标之不同形状及尺寸的选择,且可实现选定参数之晶粒内测量。 |
申请公布号 |
TW200935192 |
申请公布日期 |
2009.08.16 |
申请号 |
TW097151092 |
申请日期 |
2008.12.26 |
申请人 |
ASML荷兰公司 |
发明人 |
卡雷尔 戴德瑞克 凡 德 马斯特;尼克拉斯 安东尼欧 欧乐根达 乔汉斯 范 爱斯登;艾瑞 杰佛瑞 丹 伯夫;马卡斯 安德纳斯 范 戴 克豪夫 |
分类号 |
G03F7/20(2006.01);G03B27/52(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/20(2006.01) |
代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
主权项 |
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地址 |
荷兰 |