发明名称 使用穿通电极制造叠层封装之方法
摘要 本发明提供一晶圆级叠层封装之制造方法,包括:背面研磨包含数片第一半导体晶片之一晶圆之下表面。一支承构件被黏着于该背面研磨晶圆之下表面;一或多片第二半导体晶片系堆叠于该背面研磨晶圆之各第一半导体晶片上;第一穿通电极被形成而电性连接堆叠之第一半导体晶片和第二半导体晶片;第三半导体晶片系黏着于叠层之第二半导体晶片之最上面,该第三半导体晶片系具有电性连接第一穿通电极之第二穿通电极和与第二穿通电极相接之重配置线;将外部连接端黏着于第三半导体晶片之重配置线;堆叠第二和第三半导体晶片之晶圆级第一半导体晶片被切割而成晶片级之半导体封装。
申请公布号 TW200935580 申请公布日期 2009.08.16
申请号 TW097148366 申请日期 2008.12.12
申请人 海力士半导体股份有限公司 发明人 韩权焕;朴昌濬;金圣哲;金圣敏;崔亨硕;李荷娜
分类号 H01L25/04(2006.01);H01L23/485(2006.01);H01L23/535(2006.01) 主分类号 H01L25/04(2006.01)
代理机构 代理人 郑再钦
主权项
地址 南韩