| 发明名称 | 衬底台、光刻设备和器件制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种衬底台、一种光刻设备以及一种器件制造方法。在所公开的台中，设置开口用于将浸没流体提供到所述台的顶部表面。在实施例中，存在两个这样的开口。第一开口围绕所述台的衬底支撑结构，而第二开口围绕所述台的外部边缘延伸。 | ||
| 申请公布号 | CN101598907A | 申请公布日期 | 2009.12.09 |
| 申请号 | CN200910203131.9 | 申请日期 | 2009.06.02 |
| 申请人 | ASML荷兰有限公司 | 发明人 | H·J·卡斯特里金斯;N·坦凯特;S·苏勒普;P·M·G·J·阿蒂斯 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;H01L21/02(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人 | 王新华 |
| 主权项 | 1.一种用于浸没式光刻设备的台，所述台包括用于将浸没流体提供到所述台的顶部表面上的开口。 | ||
| 地址 | 荷兰维德霍温 | ||