发明名称 |
SURFACE TREATING METHOD OF METAL FILMS PROVIDED TO SEMICONDUCTOR DEVICE |
摘要 |
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申请公布号 |
JPS52143784(A) |
申请公布日期 |
1977.11.30 |
申请号 |
JP19760060016 |
申请日期 |
1976.05.26 |
申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
IWATA SEIICHI;MUKAI KIICHIROU;ISHIZAKA AKITOSHI;OOKUBO TOSHIO;YAMAMOTO HIROSHI |
分类号 |
H01L21/768;H01L21/28;H01L21/302;H01L21/308;H01L23/522 |
主分类号 |
H01L21/768 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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