光阻图型之形成方法

摘要

光阻图型之形成方法，其为包含使用含有经由酸之作用而增大对有机溶剂之溶解性的基材成份(A)，与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份的光阻组成物，于支撑体上形成光阻膜之步骤、使该光阻膜曝光之步骤，及对该光阻膜，使用含有前述有机溶剂之显影液经由正型显影进行图型描绘(patterning)，以形成光阻图型之步骤，其中，(A)成份为，使用具有α位之碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基之结构单位的树脂成份，显影液为使用含有极性有机溶剂，且实质上不含硷成份之显影液之光阻图型之形成方法。

主权项

一种光阻图型之形成方法，其为包含，使用含有经由酸之作用而增大对有机溶剂之溶解性的基材成份(A)，与经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，于支撑体上形成光阻膜之步骤、使前述光阻膜曝光之步骤，及对前述光阻膜，使用含有前述有机溶剂之显影液以正型显影方式进行图型描绘(patterning)以形成光阻图型之步骤的光阻图型之形成方法，其特征为，前述基材成份(A)为使用具有结构单位(a1)之树脂成份(A1)；该结构单位(a1)系由α位之碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且系含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基的结构单位，前述显影液为使用由选自由甲醇、乙醇及异丙醇所成群之至少一种所构成，且实质上不含硷成份之显影液。