| 发明名称 |
含磺胺类之光阻组成物及其使用方法 |
| 摘要 |
在微影制程中使用的含磺胺类之光阻组成物，其具有高解析度、低模糊成像的改良性质。亦揭示用于抗蚀剂上抗蚀(resist-on-resist)应用的醇溶性光阻。本发明含磺胺类之光阻组成物包括正色调光阻组成物，其包括具有分支连接基团的磺胺类取代重复单元如分子式(I)所示： |
| 申请公布号 |
TWI534542 |
申请公布日期 |
2016.05.21 |
| 申请号 |
TW100105052 |
申请日期 |
2011.02.16 |
| 申请人 |
万国商业机器公司;中央硝子股份有限公司 |
发明人 |
桑德斯 丹尼尔 保罗;藤原昌生;照井贵阳 |
| 分类号 |
G03F7/039(2006.01);C08F20/38(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/039(2006.01) |
| 代理机构 |
|
代理人 |
李宗德 |
| 主权项 |
一种正色调光阻组成物，其包含一聚合物、一PAG、及一溶剂，其中该聚合物包括根据分子式(I)具有一磺胺基及一分支连接基团的一第一重复单元：
及包括为一酸性不稳定保护基所保护之一酸基的一第二重复单元，其中：R1及R2独立选自由以下组成的群组：氢、氟、甲基、及三氟甲基；R3选自由以下组成的群组：氢、卤素、C1-C12烷基、及氟化C1-C12烷基；R4、R5、及R6独立选自氢、氟、C1-C12烷基、及氟化C1-C12烷基；R7系氟化C1-C12烷基；及R4、R5、及R6中至少一者包括碳，其中该组成物排除以下之选项：根据分子式(II)的重复单元且R8为甲基及R9为三氟甲基，
|
| 地址 |
美国;日本 |
