反射防止層の製造法

摘要

基材（１０）上に反射防止層を製造する方法であって、以下の方法工程：第一のナノ構造（１１）を、第一の材料においてプラズマエッチング処理により作り出す工程であって、ここで、前記第一の材料は、前記基材（１０）の材料であるか又は前記基材（１０）上に施与された第一の有機材料から成る層（１）の材料である前記工程、第二の材料から成る層（２）を前記第一のナノ構造（１１）上に施与する工程であって、ここで、前記第二の材料は有機材料である前記工程、及び第二のナノ構造（１２）を、前記第二の材料から成る層（２）において第二のプラズマエッチング処理により作り出す工程であって、ここで、前記第二の材料は、前記第二のプラズマエッチング処理の実施に際して、前記第一の材料より高いエッチング速度を有する工程を含む前記方法。