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发明名称
WAFER CHUCK FOR MASK ALIGNER
摘要
PURPOSE:To eliminate the shift discrepancy between the mask and wafer at the contact-separation action time and also to reduce the action frequency, by supporting the chuck section of the mask aligner with an elastic disk.
申请公布号
JPS52131474(A)
申请公布日期
1977.11.04
申请号
JP19760047665
申请日期
1976.04.28
申请人
HITACHI LTD
发明人
KOMORIYA SUSUMU;MAEJIMA HIROSHI;YOSHIDA KIYOSHI;NISHIZUKA HIROSHI
分类号
H01L21/027;G03F7/20
主分类号
H01L21/027
代理机构
代理人
主权项
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