| 主权项 |
1﹒一种用于一连续铸造工厂中以便搅拌呈束状浇注液体状态的物质的电磁搅拌器,包括搅拌器线圈(4)以及线圈型心(5),其系设置在一个搅拌器壳体(7)里面并且利用一种冷却液体(8)来予以冷却,其特征在于该设置在该壳体(7)内的搅拌器线圈(4)系沈浸在一个第一,概呈静止的液体(8)里面,以及一个可供一第二液体(10)流通的冷却管路系统(11)系设置在该装乘在搅拌器壳体(7)里面的第一液体(8)的里面的区域的地方。2﹒根据申请专利范围第1项所述之搅拌器,其中该第一液体(8)系为一种非导电性的材料,例如油。3﹒根据申请专利范围第1项所述之搅拌器,其中该第二液体(10)系为水。4﹒根据申请专利范围第1项所述之搅拌器,其中该搅拌器系连接至一个锭铸模,并且该搅拌器和该锭铸模一起震动,而该冷却管路系统(32)则系连接至一个可以供应该模具冷却水的管路(33),并且在一个平行或是接近模具冷却系统的一个封闭管路中流动。5﹒根据申请专利范围第1项所述之搅拌器,其中该搅拌器(1)在该铸造导引系统中系为静止的,而该冷却管路系统(11一11'")则系为静止的,而该冷却管路系统(11-11''')则系部@]置在一个可以供应二次冷却水以便冷却该铸件(2)的管路(╮@陕情^以及一个可供对该铸件进行冷却的喷雾器(14)之间。6﹒根据申请专利范围第5项所述之搅拌器,其中该设置在该搅拌器壳体内的冷却管路系统(11-11''')被分割成多数个独立炕@熔掍颡t统(11-11''')并且连接至一个供应源(12)。7﹒根据申请专利范围第1项到第6项中任何一项所述之搅拌器,其中该壳体(7)在会受到来自该铸件(2)的辐射线照到的暴露区城内提供有一种水套(15)或是一种抗辐射的遮护体,而该冷却水套(15)则系连接至该冷却管路系统(11)的出水口处。8﹒根据申请专利范围第1项所述之搅拌器,其中该第二液体(10)系连接至一个可以供应该模具冷却水或是该二次冷却水的管路(33或12),其系已经设置在该连续铸造工厂中。图示简单说明第一图系为一搅拌器之剖视图。第二图系为这个搅拌器之剖视图。第三图系为一个包括一个搅拌器的模具的垂直剖视图。 |
