| 发明名称 |
PROCEDE DE TRAITEMENT D'UNE COUCHE DE NITRURE DE SILICIUM D'UN DISPOSITIF SEMI-CONDUCTEUR |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
FR2344963(A1) |
申请公布日期 |
1977.10.14 |
| 申请号 |
FR19770007172 |
申请日期 |
1977.03.10 |
| 申请人 |
NATIONAL CASH REGISTER CY |
发明人 |
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| 分类号 |
H01L21/027;H01L21/3105;H01L21/312;(IPC1-7):H01L21/30 |
主分类号 |
H01L21/027 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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