PREPARATION OF ELECTRODE AND WIRING LAYERS FOR SEMICONDUCTOR,申请号JP19760029238-传众专利搜索

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发明名称	PREPARATION OF ELECTRODE AND WIRING LAYERS FOR SEMICONDUCTOR
摘要
申请公布号	JPS52113159(A)	申请公布日期	1977.09.22
申请号	JP19760029238	申请日期	1976.03.19
申请人	HITACHI LTD	发明人	KATOU HIROSHI;KOBAYASHI MASAMICHI;ASHIKAWA KAZUTOSHI
分类号	H01L21/3213;H01L21/28	主分类号	H01L21/3213
代理机构		代理人
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