| 发明名称 |
METHOD OF MANUFACTURING NEGATIVE TYPE PHOTOMASK BY WAY OF NEW LIFT OFF PROCESS |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5293274(A) |
申请公布日期 |
1977.08.05 |
| 申请号 |
JP19760009682 |
申请日期 |
1976.01.31 |
| 申请人 |
TOPPAN PRINTING CO LTD |
发明人 |
SUZUKI EIICHI;TERUNUMA HIROAKI |
| 分类号 |
G03F1/00;G03F1/68;G03F1/80;H01L21/027;H01L21/308 |
主分类号 |
G03F1/00 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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