| 发明名称 |
PRODUCTION OF THICK FILM METAL LAYER OF INTEGRATED CIRCUIT DEVICE |
| 摘要 |
PURPOSE:To produce a thick film metal layer of high density by using a composite mask of a metal madk and resin film. |
| 申请公布号 |
JPS5264286(A) |
申请公布日期 |
1977.05.27 |
| 申请号 |
JP19750139266 |
申请日期 |
1975.11.21 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
OKUHARA SHINJI |
| 分类号 |
H05K3/46;H01L21/302;H01L21/306;H01L21/3205;H05K3/00 |
主分类号 |
H05K3/46 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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