| 发明名称 |
PROCESS FOR PRODUCTION OF P CHANNEL SILICON GATE MIS TYPE SEMICONDUCTO R DEVICE |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
JPS5243375(A) |
申请公布日期 |
1977.04.05 |
| 申请号 |
JP19750117700 |
申请日期 |
1975.10.01 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
AZUMA TAKASHI;ANSAI NORIO;SHIRASU TATSUMI;KUKI YASUKI;MEGURO SATOSHI |
| 分类号 |
H01L21/336;H01L21/22;H01L29/78 |
主分类号 |
H01L21/336 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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