| 发明名称 |
PHOTORESIST EXPOSURE METHOD |
| 摘要 |
PURPOSE:To provide a photoresist exposure method unaffected by reflected lights and diffracted lights and the like by using a light absorbent added photoresist. |
| 申请公布号 |
JPS5230428(A) |
申请公布日期 |
1977.03.08 |
| 申请号 |
JP19750105927 |
申请日期 |
1975.09.03 |
| 申请人 |
HITACHI LTD |
发明人 |
MARUYAMA YASUO |
| 分类号 |
G03C5/08;G03B15/00;G03C1/00;G03F7/00;G03F7/004;G03F7/095;G03F7/20;G03F7/26;H01L21/027;H01L21/302 |
主分类号 |
G03C5/08 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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