COMPOSITION FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR FORMING AN ANTIREFLECTION FILM, AN ANTIREFLECTION FILM, ITS APPLICATION AND AN OPTICAL ELEMENT,申请号HU20010004789-传众专利搜索

发明名称	COMPOSITION FOR VAPOR DEPOSITION, METHOD FOR FORMING AN ANTIREFLECTION FILM, AN ANTIREFLECTION FILM, ITS APPLICATION AND AN OPTICAL ELEMENT
摘要
申请公布号	HU0104789(D0)	申请公布日期	2002.01.28
申请号	HU20010004789	申请日期	2001.11.08
申请人	HOYA CORP.	发明人	KAMURA HITOSHI;KOBAYASHI AKINORI;MITSUISHI TAKESHI;SHINDE KENICHI;TAKAHASHI YUKIHIRO;TAKEI HIROKI;WATANABE YUKO
分类号	G02C7/02;B32B9/00;C23C14/08;C23C14/24;G02B1/10;G02B1/11;(IPC1-7):B22F7/02	主分类号	G02C7/02
代理机构		代理人
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