发明名称 |
PROCEDE ET DISPOSITIF POUR LA CRISTALLISATION DE MATERIAU SEMI-CONDUCTEUR EN FORME DE FEUILLE OU DE BANDE ET ELEMENT SEMI-CONDUCTEUR AINSI OBTENU |
摘要 |
Procédé et. dispositif de fabrication d'une bande ou d'une feuille de cristal semi-conducteur. Une couche 15 de matériau semi-conducteur amorphe est déposée sur une bande flexible en matière plastique 11, par exemple en utilisant une décharge luminescente dans un plasma comprenant des composés du semi-conducteur à l'état gazeux. La bande 11 circule à vitesse constante dans l'enceinte de dépôt 14 et elle est séparée de la couche 15 à la sortie de l'enceinte 14. La bande de matériau semi-conducteur amorphe passe ensuite devant un dispositif de chauffage 16 où elle atteint sa température de cristallisation. La fabrication de dispositifs semi-conducteurs sur la bande de monocristal obtenue 17 peut s'effectuer en tandem avec ce processus de dépôt et de cristallisation. Application à la production en grande série de dispositifs semi-conducteurs de tout type.
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申请公布号 |
FR2435515(A1) |
申请公布日期 |
1980.04.04 |
申请号 |
FR19790019679 |
申请日期 |
1979.07.31 |
申请人 |
ITT INDUSTRIES |
发明人 |
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分类号 |
H01L45/00;C23C16/54;C23C16/56;C30B1/02;C30B1/08;C30B29/64;H01L31/0392;H01L31/18;H01L31/20 |
主分类号 |
H01L45/00 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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