发明名称 借助于阴极溅射用合金涂覆基材
摘要 本发明涉及用于借助于阴极溅射用合金涂覆基材的靶,所述合金具有至少一种第一材料和一种第二材料作为合金组分。靶的表面具有至少一个由第一材料制成的第一区和一个由第二材料制成的第二区。两个区彼此邻接并且形成共有的边界线。本发明进一步涉及使用根据本发明的靶用于借助于阴极溅射用合金涂覆基材的设备和方法。
申请公布号 CN103108978B 申请公布日期 2016.08.31
申请号 CN201180045760.9 申请日期 2011.09.28
申请人 辛古勒斯技术股份公司 发明人 W·马斯;B·奥克;J·朗格
分类号 C23C14/34(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I;H01J37/34(2006.01)I 主分类号 C23C14/34(2006.01)I
代理机构 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人 石克虎;林森
主权项 借助于磁控管阴极溅射用合金涂覆平面基材(3)的方法,所述基材(3)具有一定宽度和长度,所述合金包含至少一种第一和一种第二材料作为合金组分且具有给定的合金组成,所述方法包括(a) 用具有以下物质的磁控管溅射阴极:(a1) 包含合金组分的靶(1),和(a2) 当从基材(3)观察时布置在靶(1)后方,用于在靶(1)的表面形成至少一个侵蚀区(5)的磁铁装置(2),其中(b) 靶(1)的表面包括至少一个第一材料的第一区(11)和一个第二材料的第二区(12),(c) 所述第一区(11)和第二区(12)彼此邻接并且在靶(1)的表面上的侵蚀区的区域中形成共有的边界线(4),和(d) 侵蚀区(5)位于边界线(4)的区域,使得侵蚀区(5)的第一部分(5‑1)位于第一靶区(11)上并且侵蚀区(5)的第二部分(5‑2)位于第二靶区(12)上,(e) 在涂覆期间,基材(3)在靶(1)下方在朝向远离磁铁装置(2)的一侧以平行于靶(1)的横向的方向移动,其特征在于,(f) 在移动基材之前,通过以下方式调节合金比例:(f1) 横向于边界线(4)移动侵蚀区(5),和/或(f2) 在平行于靶(1)的表面的平面内调节边界线(4)与侵蚀区的纵向之间的锐角α,和/或(f3) 调节磁铁装置的表面与朝向基材(3)的靶(1)的表面之间的角度β。
地址 德国美因河畔卡尔