| 发明名称 |
Verfahren und Vorrichtung zur Behandlung der Oberfläche und des Volumens eines aus elektrisch leitendem Material, insbesondere Halbleitermaterial bestehenden Körpers |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
CH441532(A) |
申请公布日期 |
1967.08.15 |
| 申请号 |
CH19660001178 |
申请日期 |
1966.01.28 |
| 申请人 |
VEB HALBLEITERWERK FRANKFURT/ODER |
发明人 |
POSER,HELMUT,DIPL.-PHYS. |
| 分类号 |
C23C14/22;H01J37/32;H01L21/00;H01L21/263;(IPC1-7):H01J37/30;H01L7/34 |
主分类号 |
C23C14/22 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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