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1.一种用以承载磁头之磁头滑件,包含:一滑件结构,具有前端和尾端,以及一空气承载面;一个位在该空气承载面上的花纹区域,该花纹区域上具有一保护涂层,该涂层包含一层薄黏着层和一薄层之非结晶质氢化碳。2.根据申请专利范围第1项之磁头滑件,邦中该花纹区域至少包含一轨条。3.根据申请专利范围第2项之磁头滑件,其中该黏着层包含矽。4.根据申请专利范围第3项之磁头滑件,其中该黏着层之厚度约为10至50埃。5.根据申请专利范围第4项之磁头滑件,其中该保护涂层之厚度约为250埃,或是更少。6.一种制造承载磁头用之磁头滑件的方法,该滑件具有一个可提供所选定之磁头尺寸的空气承载面,该方法包含下列步骤:在该滑件之空气承载面上淀积一层保护涂层,该保护涂层包含一层薄黏着层和一薄层之非结晶质氢化碳;在该空气承载面轨条以外之区域上,自该空气承载面移除材料至一选定之深度,而在该空气承载面上形成至少一个轨条之花纹;以及将该保护涂层保留在该轨条上,使得该滑件在一磁性记录系统内正常作业时,该保护涂层可用以保护磁头和空气承载面,使之免于受磨损和腐蚀之伤害。7.根据申请专利范围第6项之制造磁头滑件的方法,其中该形成轨条花纹之步骤系藉蚀刻程序为之。8.根据申请专利范围第7项之制造磁头滑件的方法,其中该蚀刻程序包含反应式离子蚀刻。9.根据申请专利范围第6项之制造磁头滑件的方法,其中该黏着层包含矽。10.根据申请专利范围第9项之制造磁头滑件的方法,其中该黏着层之厚度约为10至50埃。11.根据申请专利范国第10项之制造磁头滑件的方法,其 |
