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发明名称 SYSTEM AND METHOD FOR THERMAL PROCESSING OF A SEMICONDUCTOR SUBSTRATE
摘要
申请公布号 EP0840811(B1) 申请公布日期 2002.09.25
申请号 EP19960923710 申请日期 1996.07.09
申请人 MATTSON TECHNOLOGY INC. 发明人 JOHNSGARD, KRISTIAN, E.;MATSON, BRAD, S.;MCDIARMID, JAMES;ZEITLIN, VLADIMIR, J.
分类号 C23C16/46;C30B25/10;C30B31/12;H01L21/22;(IPC1-7):C30B31/12 主分类号 C23C16/46
代理机构 代理人
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