薄膜之制法、及薄膜

摘要

本发明之薄膜制法系在卷出高分子基材后，使金属蒸气化，在高分子基材表面上形成无机物层时，导入氧气，在含有有机矽化合物之气体激发环境中，形成无机化合物层之薄膜制法。本发明之薄膜制法，可以制造对氧气、水蒸气等具有高气蔽性之薄膜。