含矽防反射膜形成用组成物、含矽防反射膜、以及使用其之基板加工中间体及被加工基板之加工方法

摘要

本发明之解决手段系，在使用波长200nm以下之曝光光之微影术法中，防反射膜形成用组成物，含有至少一种一般式(1)R(6-m)Si2Xm(1)(R为一价烃基，X为烷氧基，烷醯氧基或卤原子，m为6≧m≧3)所示之具有矽一矽键结之水解性矽烷化合物之反应液予以水解缩合而得之含矽聚合物之含矽防反射膜形成用组成物。本发明之效果系，本发明之组成物，可形成在其上所形成光阻膜之良好的图型，在与有机材料之间可获得高蚀刻选择性。可获得被加工基板之高加工精度。