发明名称 |
III族窒化物半導体素子およびその製造方法 |
摘要 |
半導体構造部のコーナー近傍から部に伸展するX型のクラックだけでなく、部分に生じる点状のクラックの発生をも抑制した高品質のIII族窒化物半導体素子、および該III族窒化物半導体素子を効率的に製造する方法を提供する。本発明のIII族窒化物半導体素子は、支持体146Aと、この支持体146A上に設けられる、横断面の形状が略四角形の2つの半導体構造部114と、を有し、2つの半導体構造部114は、それぞれの1つの側面150A同士が向かい合って位置し、支持体146Aが、半導体構造部114における4つの側面のうち残りの3つの側面150B,150Cを覆うことを特徴とする。 |
申请公布号 |
JPWO2014049885(A1) |
申请公布日期 |
2016.08.22 |
申请号 |
JP20140538076 |
申请日期 |
2012.09.28 |
申请人 |
ビービーエスエイ リミテッドBBSA Limited;DOWAエレクトロニクス株式会社 |
发明人 |
▲チョ▼ 明煥;李 錫雨;鳥羽 隆一;門脇 嘉孝 |
分类号 |
H01L21/301;H01L21/02;H01L21/20;H01L21/306;H01L29/41;H01L33/32 |
主分类号 |
H01L21/301 |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
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地址 |
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