| 发明名称 |
Chemical vapor deposition system |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
AU2002343583(A1) |
申请公布日期 |
2003.05.12 |
| 申请号 |
AU20020343583 |
申请日期 |
2002.10.29 |
| 申请人 |
GENUS, INC. |
发明人 |
JUREK PUCHACZ;ADRIAN JANSZ;KEN DOERING;THOMAS E. SEIDEL |
| 分类号 |
C23C16/44;C23C16/455;C23C16/54;(IPC1-7):C23C16/54;H01L21/00 |
主分类号 |
C23C16/44 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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