使用原子层沈积方法形成材料层之方法

摘要

本发明揭示一种使用一原子层沈积(ALD)方法在一处理工具之一处理腔室中形成一材料层之方法。在一说明性实施例中，该方法包括识别该材料层之一目标特征，确定一用于在ALD方法期间将一前驱气体引入至处理腔室中以于该材料层中产生该目标特征之前驱脉冲时间，及执行包含复数个步骤之ALD方法，其中将该前驱气体引入至腔室中历时该所确定之前驱脉冲时间以藉此形成该材料层。