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Patente de Invenção: <B>"REVELADOR PARA MATERIAIS DE REGISTRO SENSìVEIS à RADIAçãO IRRADIADOS"<D>. A invenção refere-se a um revelador para materiais de registro sensíveis à radiação irradiados, em particular para a produção de placas de impressão em offset, que contém água, um composto que seja alcalino em solução aquosa e um copolímero que age como emulsificador e que tem unidades de (I) um composto vinílico hidrofóbico que tenha radicais alquila com até 30 átomos de carbono; e (I) um ácido carboxílico etilenicamente insaturado hidrofílico. Alguns dos grupos carboxila nessas unidades são esterificados com produtos de reação de (A) alcanóis (C~ 1~-C~ 30~), ácidos alcanóicos (C~ 8~-C~ 25~), laquilfenóis (C~ 1~-C~ 12~) ou dialquilaminas (C~ 1~-C~ 20~) com (B) óxidos de alquileno (C~ 2~-C~ 4~) ou tertraidrofurano, a razão molar de (A): (B) estando na faixa de 1:1 a 1:50. Destina-se a revelar materiais de registro com uma camada de trabalho negativo, o revelador contendo, além disso, um solvente orgânico miscível em água e um composto tensoativo. O revelador tem uma baixa viscosidade inicial, que aumenta apenas lentamente com o aumento da contaminação com componentes de camada. Além disso, evita a deposição de componentes de camada na máquina de revelação de placas de impressão.
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