发明名称 |
形成掺杂区的方法、太阳能电池及其制造方法 |
摘要 |
本发明公开了一种在太阳能电池中形成掺杂区的方法、一种太阳能电池及其制造方法。在太阳能电池中形成掺杂区的方法包括:制备基底的第一表面和第二表面;在第一表面的一部分中形成掺杂有第一掺杂剂的第一掺杂区;在第一表面上形成氧化硅层,氧化硅层包括第一氧化硅层和第二氧化硅层,第一氧化硅层位于第一掺杂区上且具有第一厚度,第二氧化硅层位于第一表面的未被第一掺杂剂掺杂的部分上并且具有比第一厚度小的第二厚度;从第一表面的外部向第一氧化硅层和第二氧化硅层中注入第二掺杂剂;通过对第一氧化硅层、第二氧化硅层和基底执行热处理形成与第一掺杂区相邻的第二掺杂区。 |
申请公布号 |
CN102760791B |
申请公布日期 |
2016.06.08 |
申请号 |
CN201210101847.X |
申请日期 |
2012.04.09 |
申请人 |
三星SDI株式会社 |
发明人 |
金元均;郭熙峻;朴商镇;金永镇;徐祥源 |
分类号 |
H01L31/18(2006.01)I;H01L31/0352(2006.01)I |
主分类号 |
H01L31/18(2006.01)I |
代理机构 |
北京铭硕知识产权代理有限公司 11286 |
代理人 |
韩明星 |
主权项 |
一种在太阳能电池中形成掺杂区的方法,所述方法包括:制备基底的第一表面和基底的与第一表面相对的第二表面;在第一表面的一部分中形成掺杂有第一掺杂剂的第一掺杂区;在第一表面上形成氧化硅层,氧化硅层包括第一氧化硅层和第二氧化硅层,其中,第一氧化硅层位于第一掺杂区上且具有第一厚度,第二氧化硅层位于第一表面的未被第一掺杂剂掺杂的部分上并且具有比第一厚度小的第二厚度;从第一表面的外部向第一氧化硅层和第二氧化硅层中注入第二掺杂剂;以及通过对第一氧化硅层、第二氧化硅层和基底执行热处理形成与第一掺杂区相邻的第二掺杂区,其中,第一掺杂区和第二掺杂区彼此分开。 |
地址 |
韩国京畿道龙仁市 |