发明名称 光电转换装置及其制造方法与半导体装置
摘要 本发明的目的是提供一种具有可以抑制静电放电损害的结构的光感测器。通常,在光接收区的整个表面上形成透明电极,然而,在本发明中,不形成透明电极,而是将光电转换层中的p型半导体层和n型半导体层用作电极。因此,在根据本发明的光感测器中,电阻增加且可以抑制静电放电损害。此外,将用作电极的p型半导体层和n型半导体层的位置分离开,且由此,增加电阻并且可以提高耐压。
申请公布号 TW200631171 申请公布日期 2006.09.01
申请号 TW095104747 申请日期 2006.02.13
申请人 半导体能源研究所股份有限公司 发明人 西和夫;菅原裕辅;高桥宽畅;荒尾达也
分类号 H01L27/14;G09F9/00;G02F1/1335 主分类号 H01L27/14
代理机构 代理人 林志刚
主权项
地址 日本
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