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发明名称
基底台、测量一基底之一位置之方法以及微影装置
摘要
本发明系关于一种经配置以支撑一具有至少一个基底标记之基底的基底台。具有一位置之该至少一个基底标记可使用一对准系统测量。该基底台具有一光学系统,该光学系统具有一偏离于1之放大因子,进而用于提供一待藉由该对准系统测量之该至少一个基底标记的影像。
申请公布号
TW200630759
申请公布日期
2006.09.01
申请号
TW094140204
申请日期
2005.11.16
申请人
ASML公司
发明人
亨利克斯 威尔翰玛斯 玛莉亚 范 布尔;HENRICUS WILHELMUS MARIA;法兰西斯科 哥登法兰德斯 凯司柏 班捷恩;FRANCISCUS GODEFRIDUS CASPER;贾库巴 博荷恩;赫伊德 彼特 雷德 特沙玛;彼得 田 柏基
分类号
G03F7/20;G03F9/00
主分类号
G03F7/20
代理机构
代理人
陈长文
主权项
地址
荷兰
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