基板处理装置和成膜装置

摘要

本发明提供基板处理装置和成膜装置。基板处理装置具有：处理容器；用于对基板进行气体处理的多个处理区域；旋转台，其将基板载置在其上表面侧并使基板依次通过多个处理区域；反应气体供给用的气体喷嘴；分离区域；排气口；罩构件，其用于使反应气体滞留在气体喷嘴的周围，其包括侧壁部和上壁部，在上述罩构件上，从旋转方向上游侧的侧壁部的下部起设有引导面，该引导面用于将从旋转方向上游侧流动的分离气体向上述罩构件的上方引导，气体喷嘴与旋转方向上游侧的侧壁部之间的间隔是8mm以上。

主权项

一种基板处理装置，其特征在于，该基板处理装置具有：处理容器；多个处理区域，其设在上述处理容器内，用于分别被供给反应气体而对基板进行气体处理；旋转台，其设在上述处理容器内，以使载置在该旋转台的上表面侧的载置区域上的基板依次通过上述多个处理区域的方式旋转；反应气体供给用的气体喷嘴，其设在上述多个处理区域中的至少一个处理区域中，以与上述载置区域的移动方向相交叉的方式延伸，并且沿其长度方向形成有喷出口；分离区域，其被供给用于使上述多个处理区域的气氛气体分离的分离气体，且在上述旋转的方向上位于上述多个处理区域之间；排气口，其用于对上述处理容器内进行排气；罩构件，其用于使反应气体滞留在气体喷嘴的周围，其包括侧壁部和上壁部，该侧壁部相对于上述气体喷嘴分别设在上述旋转台的旋转方向上游侧以及旋转方向下游侧，该上壁部设在气体喷嘴的上侧，使从上述旋转方向上游侧流动的分离气体在该上壁部的上方区域向下游侧流通，上述罩构件利用上述侧壁部和上述上壁部来包围气体喷嘴的周围，在上述罩构件上从上述旋转方向上游侧的侧壁部的下部起设有引导面，该引导面用于将从旋转方向上游侧流动的分离气体向上述罩构件的上方引导，气体喷嘴与旋转方向上游侧的侧壁部之间的间隔是8mm以上，其中，从上述气体喷嘴喷出的反应气体一边与上述罩构件的上述上壁部和上述旋转台碰撞一边成为流动的湍流，并向旋转方向上游侧和下游侧扩散。