| 摘要 |
검사 대상(0)의 자기 공명-기반 슬라이스 노출들(KS, KS, KS, ..., KS)을 생성하는 방법이 설명된다. 검사 대상(0)에 걸친 측정 슬라이스들(WS, WS, WS, ..., WS, FS, FS, FS, ..., FS)의 스택에 대한 측정 데이터가 처음에 일련의 슬라이스 측정 시퀀스들에 의해 획득된다. 일련의 슬라이스 측정 시퀀스들은, 제1 물질과 관련하여 정의된 화학적 시프트를 갖는 제2 물질로부터 제1 물질의 분리를 허용하도록 디자인되고, 제1 물질에 대한 측정 데이터를 갖는 측정 슬라이스(WS, WS, WS, ..., WS)의 위치(PWS, PWS)는 제2 물질에 대한 측정 데이터를 갖는 측정 슬라이스(FS, FS, FS, ..., FS)의 위치(PFS)에 대해 공간적으로 시프트된다. 그 다음, 각각의 제1 및 제2 물질이 표시되는, 조합 슬라이스 노출들(KS, KS, KS, ..., KS)이 형성되는데, 적어도 제1 슬라이스 측정 시퀀스로부터의 제1 물질의 측정 데이터는 적어도 하나의 제2 슬라이스 측정 시퀀스로부터의 제2 물질의 측정 데이터와 조합되어, 제1 및 제2 물질의 이미지 데이터가 조합 슬라이스 노출들(KS, KS, KS, ..., KS)에서 서로에 대해 정확하게 위치하도록(적어도 미리 결정된 허용 오차의 정도 이내) 공간적으로 배열된다. 또한, 본 발명에 따른 방법의 구현을 위한 측정 데이터 처리 유닛(20) 및 그러한 측정 데이터 처리 유닛(20)을 갖는 자기 공명 시스템(1)이 설명된다. |
