| 主权项 |
1.一种双轴立式搪缸机之昇降结构改良,其系包括:一机台,该机台设有两结合部组,且每一结合部组包含有至少两个与机台平行之结合部;两主轴支架,该主轴支架至少一侧对应卡制该结合部设有嵌合部,以使该主轴支架之嵌合部嵌合于该机台之结合部上;各设于该机台两外侧面之调整装置,该调整装置系包含有两定位块,两定位块各固设于该机台之侧面,而该定位块朝结合部之一侧设有一斜面,且该斜面之顶部设有一调整槽,该调整槽连设有一螺孔,而对应该斜面设有一锥柱,且锥柱之顶侧系设有一凹弧,使该锥柱插设于该固定块之斜面内,且该锥柱之另侧系抵顶于该结合部与该主轴支架之一侧面,另设有一螺栓,该螺栓系螺合于该定位块之螺孔内,且该螺栓螺栓头之一侧系抵合于该锥柱之凹弧内,而使该螺栓之螺栓头与调整槽间形成有一调整空间。2.如申请专利范围第1项所述之双轴立式搪缸机之昇降结构改良,其中该机台之结合部系为一导轨,且设呈角柱状,而该主轴支架之嵌合部对应该导轨这形状系设为一嵌槽者。3.如申请专利范围第1项或第2项所述之双轴立式搪缸机之昇降结构改良,其中另设有一呈L形之垫片,以垫设于该锥柱与该导轨之一侧,并且设有一抵块固定于该锥柱上,且抵块之一侧系抵顶于该螺栓之顶面者。4.如申请专利范围第3项所述之双轴立式搪缸机之昇降结构改良,其中另设有一固定架,该固定架系固定于该主轴支架与定位块之一外侧者。图式简单说明:第一图系本创作搪缸机之立体外观示意图。第二图系本创作之昇降机构元件立体分解图。第三图系本创作之昇降机构侧面立体外观图。第四图系本创作之部份俯视剖面示意图。第五图系本创作调整装置之侧面组合剖面图。第六图系习用之昇降机构立体外观示意图。 |
