发明名称 半導体素子
摘要 PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a semiconductor element using an oxide semiconductor layer that has a reduced variation of Vth and stable characteristics.SOLUTION: The semiconductor element includes an oxide semiconductor layer containing In (indium) and O (oxygen), and an insulating layer containing Si (silicon), F (fluorine) and N (nitrogen).
申请公布号 JP5984354(B2) 申请公布日期 2016.09.06
申请号 JP20110222996 申请日期 2011.10.07
申请人 住友電気工業株式会社;日新電機株式会社 发明人 宮永 美紀;粟田 英章;岡田 浩;栗巣 賢一;安東 靖典;高橋 英治;藤原 将喜
分类号 H01L29/786;C23C14/08;C23C16/42;H01L21/316;H01L21/318;H01L21/336;H01L21/363 主分类号 H01L29/786
代理机构 代理人
主权项
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