| 发明名称 |
光阻组成物，光阻图型之形成方法，高分子化合物 |
| 摘要 |
含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)为含有，具有式(a0-1)所示结构单位(a0)，与α位的碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基的结构单位(a1)的树脂成份(A1)。
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| 申请公布号 |
TWI534531 |
申请公布日期 |
2016.05.21 |
| 申请号 |
TW101112636 |
申请日期 |
2012.04.10 |
| 申请人 |
东京应化工业股份有限公司 |
发明人 |
入江真树子;平野智之;高木大地 |
| 分类号 |
G03F7/004(2006.01);C08F220/18(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/004(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
林志刚 |
| 主权项 |
一种光阻组成物，其为含有经由酸之作用而对显影液之溶解性产生变化之基材成份(A)，及经由曝光而产生酸之酸产生剂成份(B)之光阻组成物，其特征为，前述基材成份(A)，为含有，具有下述通式(a0-1)所示结构单位(a0)，与α位的碳原子所键结之氢原子可被取代基所取代之丙烯酸酯所衍生之结构单位，且含有经由酸之作用而增大极性之酸分解性基的结构单位(a1)之树脂成份(A1)，
〔式中，R为氢原子、碳数1~5之烷基，或碳数1~5之卤化烷基〕。
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| 地址 |
日本 |
