| 发明名称 |
微影装置、校准方法、器件制造方法及电脑程式产品 |
| 摘要 |
本发明揭示一种在一位阶感测器中点高度偏移之校准，其系在一光阻涂布之基板上执行，以消除由位阶感测器获得之基板位置测量的程序相依。 |
| 申请公布号 |
TW200732867 |
申请公布日期 |
2007.09.01 |
| 申请号 |
TW096102858 |
申请日期 |
2007.01.25 |
| 申请人 |
ASML公司 |
发明人 |
杰佛瑞 哥德芮杜斯 寇尼利斯 坦佩拉;JEFFREY GODEFRIDUS CORNELIS;杰拉德 卡罗路 乔哈纳斯 赫夫曼;CAROLUS JOHANNUS;瑞奈 欧斯特候特;珍 豪斯奇德;汉斯 艾瑞克 卡陶 |
| 分类号 |
G03F9/00(2006.01);G01C5/00(2006.01);G06F17/50(2006.01) |
主分类号 |
G03F9/00(2006.01) |
| 代理机构 |
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代理人 |
陈长文 |
| 主权项 |
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| 地址 |
荷兰 |
