发明名称 FINFET STRUCTURE AND METHOD FOR FINFET DEVICE
摘要 본 개시는 또한 핀형 전계 효과 트랜지스터(FinFET) 디바이스의 실시예를 제공한다. 디바이스는 기판 위에 복수의 제1 핀 구조물을 포함한다. 제1 핀 구조물은 제1 반도체 재료 층, 및 제1 반도체 재료 층 위에 배치되고, 반도체 산화물 피쳐에 의해 적어도 부분적으로 둘러싸인 제2 반도체 재료 층을 포함한다. 디바이스는 또한 제2 반도체 재료 층 위에 배치된 제3 반도체 재료 층 및 기판 위에 배치되고 제1 핀 구조물들 중 하나에 인접한 제2 핀 구조물을 포함한다. 제2 핀 구조물은 유전체 층 위에 배치된 제3 반도체 재료 층 및 제1 반도체 재료 층을 포함한다.
申请公布号 KR101623660(B1) 申请公布日期 2016.05.23
申请号 KR20140193114 申请日期 2014.12.30
申请人 타이완 세미콘덕터 매뉴팩쳐링 컴퍼니 리미티드 发明人 칭 쿠오 쳉;펑 카 힝;우 지퀴앙
分类号 H01L29/78 主分类号 H01L29/78
代理机构 代理人
主权项
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