| 发明名称 | 可用于吸收紫外光的甲硅烷基化剂 | ||
| 摘要 | 在聚硅氧烷硬涂料中加入一种能吸收紫外光的新型甲硅烷基化剂，用以涂布聚碳酸酯基质。经涂布后的聚碳酸酯基质显示出改善的耐磨性能和耐紫外光性能。 | ||
| 申请公布号 | CN1113492A | 申请公布日期 | 1995.12.20 |
| 申请号 | CN95102039.0 | 申请日期 | 1995.02.17 |
| 申请人 | 通用电气公司 | 发明人 | J·E·皮克特 |
| 分类号 | C07F7/18 | 主分类号 | C07F7/18 |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人 | 刘元金;齐曾度 |
| 主权项 | 1、一种可用于吸收紫外光的结构式如下的甲硅烷基化剂：<img file="951020390_IMG1.GIF" wi="669" he="531" />其中每个R独立地是取代或未取代的单环或多环芳族基团，R<sup>1</sup>是碳或者含有少于10个碳原子的线型或支化的脂族链，R<sup>2</sup>是C<sub>1-6</sub>烷基。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||