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<p>Dispositivo con electrodo, en particular un ánodo, que comprende un núcleo, y uno o más recubrimientos superficiales de material conductor eléctrico, recubrimiento que se prepara con un método de pulverización, caracterizado porque el recubrimiento superficial comprende: - una primera capa de tántalo metálico, niobio, hafnio, circonio o una aleación de los mismos, y - una segunda capa de platino metálico, rodio, iridio, rutenio, paladio, o una aleación de los mismos, en la que cada una de las capas tiene un grosor de 0, 005 mm a 0, 050 mm y una superficie libre de poros, y las capas se preparan por pulverización utilizando una técnica de pulverización de plasma en vacío (VPS) bajo atmósfera controlada.</p> |
