发明名称 |
光刻胶层中减小图案尺寸的方法 |
摘要 |
本发明涉及在用于降低基板上的光刻胶层的图案尺寸的所谓涂覆热流动方法中的改进来实现光刻胶图案细度的增加,其中将形成在光刻胶层上的水溶性树脂涂层进行热处理,使该涂层产生热收缩,同时减小图案尺寸,随后通过水洗除去涂层。该方法的改进是通过下述步骤实现的:除了水溶性树脂例如基于聚丙烯酸基的聚合物之外,在涂料水溶液中混合水溶性胺化合物例如三乙醇胺。进一步的改进是这样实现的:从特殊的共聚物中选择水溶性树脂,所述特殊共聚物包括(甲基)丙烯酸和含氮化合物例如N-乙烯基吡咯烷酮、N-乙烯基亚乙基脲和N-丙烯酰基吗啉的共聚物以及在特定共聚比下的N-乙烯基吡咯烷酮和N-乙烯基亚乙基脲的共聚物。 |
申请公布号 |
CN100465798C |
申请公布日期 |
2009.03.04 |
申请号 |
CN200410011596.1 |
申请日期 |
2002.07.04 |
申请人 |
东京应化工业株式会社 |
发明人 |
菅田祥树;金子文武;立川俊和 |
分类号 |
G03F7/40(2006.01);H01L21/027(2006.01) |
主分类号 |
G03F7/40(2006.01) |
代理机构 |
北京市柳沈律师事务所 |
代理人 |
宋莉;贾静环 |
主权项 |
1、一种降低基板表面上的光刻胶图案尺寸的方法,包括下述步骤:(a2)用含有水溶性树脂的涂料水溶液涂覆有图案的光刻胶层形成涂料水溶液的涂层,所述水溶性树脂是N-乙烯基吡咯烷酮的均聚物或N-乙烯基吡咯烷酮和下述共聚单体的共聚物,所述共聚单体是N-乙烯基亚乙基脲、N-丙烯酰基-吗啉或它们的组合;(b2)干燥该涂层得到水溶性树脂的干燥涂层;(c2)将干燥的涂层进行热处理,使涂层产生热收缩并降低光刻胶图案的尺寸,该热处理能够以与常规热流动方法相似的方式进行;和(d2)通过水洗溶解掉该涂层;其中步骤(c2)中的热处理温度低于有图案光刻胶层的软化温度。 |
地址 |
日本神奈川县 |