选择性障碍金属抛光溶液

摘要

抛光溶液在互连金属及介电质存在下，对移除障碍物质为有用的。以重量百分比计，该抛光溶液包含0.1至10的过氧化氢；至少一种pH调整剂，其系选自由硝酸、硫酸、盐酸及磷酸所组成的族群，用来调整抛光溶液的pH值到低于3；至少0.0025的苯并三唑抑制剂，用来减少互连金属的移除速率；0至10的界面活性剂；0.01至10的胶体氧化矽，其具有平均颗粒尺寸小于50毫微米；及平衡量的水和附带的不纯物。该抛光溶液具有氮化钽物质对铜的选择性为至少3比1，及氮化钽对TEOS的选择性为至少3比1。