发明名称 一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法
摘要 本发明公开了一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,包括如下步骤:(1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器,单脉冲激光能量为1~2000微焦,脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使所述脉冲激光束照射到放在二维平移台上的薄膜基板上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s,光斑交叠程度为10~90%。本发明能够克服现有技术中激光聚焦精度要求高,实现复杂的问题。
申请公布号 CN104475979B 申请公布日期 2016.08.24
申请号 CN201410600730.5 申请日期 2014.10.31
申请人 苏州图森激光有限公司 发明人 蒋仕彬
分类号 B23K26/362(2014.01)I 主分类号 B23K26/362(2014.01)I
代理机构 苏州创元专利商标事务所有限公司 32103 代理人 陶海锋
主权项 一种透明导电薄膜的激光刻蚀方法,其特征在于,包括如下步骤:(1)采用短波长红外脉冲激光器输出波长在1.4μm~3.0μm之间的脉冲激光,脉冲宽度为0.1ns~800ns,并进行准直处理,所述短波长红外脉冲激光器为光纤激光器, 单脉冲激光能量为1~2000微焦, 脉冲频率为1千赫兹到1兆赫兹;(2)使脉冲激光束照射到放在二维平移台上的透明导电薄膜上,控制激光束与二维平移台相对运动,使激光束聚焦点在透明导电薄膜上按设定路径移动,进行刻蚀,控制激光和透明导电薄膜相对运动速度为50mm/s~9000mm/s, 光斑交叠程度为10~90%。
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