| 发明名称 |
METHODS OF TREATING NON-SPUTTERED REGIONS OF PVD TARGET CONSTRUCTIONS TO FORM PARTICLE TRAPS, AND PVD TARGET CONSTRUCTIONS COMPRISING PROJECTIONS ALONG A NON-SPUTTERED REGION |
| 摘要 |
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| 申请公布号 |
EP1552033(A4) |
申请公布日期 |
2006.12.20 |
| 申请号 |
EP20030808031 |
申请日期 |
2003.07.11 |
| 申请人 |
HONEYWELL INTERNATIONAL, INC. |
发明人 |
KIM, JAEYEON |
| 分类号 |
C23C14/34;(IPC1-7):C23C14/34 |
主分类号 |
C23C14/34 |
| 代理机构 |
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代理人 |
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| 主权项 |
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| 地址 |
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