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Disposición para el acoplamiento de energía de microondas en un cuerpo hueco (2), que forma una cámara de tratamiento (3), especialmente una cámara de tratamiento de CVD de plasma para el recubrimiento de la pared interior de un cuerpo hueco (2), con una fuente de microondas, una instalación de acoplamiento de microondas (10), una guía de microondas (1, 9) y un tubo de alimentación de gas (13), a través del cual se puede introducir gas de proceso en el cuerpo hueco (2) y se puede activar a través de la energía de microondas acoplada en el estado de plasma y que se extiende desde un primer lado coaxialmente en el cuerpo hueco (2), mientras que la instalación de acoplamiento de microondas (10) se encuentra sobre el segundo lado opuesto, caracterizada porque el tubo de alimentación de gas (13) presenta como conductor interior de gas de una guía de ondas coaxial (1) material conductor de electricidad y porque un inserto conductor interno (12) esencialmente en forma de envolvente cilíndrica, conductor eléctrico, adicional está montado en la guía de ondas coaxial, que rodea coaxialmente a distancia el tubo de alimentación de gas (13).
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