| 主权项 |
1.一种用于架设一个光学薄膜组织到一个光学薄膜框架的方法,其包含:选择一个与所望的薄膜形状相当的薄膜框架;涂敷黏着剂于该薄膜框架;容许在该黏着剂中的溶剂蒸发;制作一个薄膜组织;架设该薄膜组织到该在薄膜框架上的黏着剂;以及加热该薄膜组织和黏着剂于该组织已架设到薄膜框架上的黏着剂之后,以结合该组织与框架。2.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该热系以一雷射产生。3.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该热系以一热枪生。4.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该热系以超声波方式产生。5.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该热系产生在一个局部区域内。6.如申请专利范围第5项所述之方法,其中该热系藉一种比该薄膜框架的宽度还要薄的光线而产生。7.如申请专利范围第6项所述之方法,其中该光学框架具有一个内侧端缘和一个外侧端缘,且其中该热系产生在该组织内且由该内侧和外侧端缘所间隔之组织内的一个区域中。8.如申请专利范围第7项所述之方法,其中该热系产生在该组织内且较靠近该外侧端缘的一个区域中。9.如申请专利范围第1项所述之方法,其在加热该薄膜组织和黏着剂的步骤之后,更包含藉在该组织中的局部加热而切掉任何超越该薄膜框架之外侧端缘的组织部份。10.如申请专利范围第9项所述之方法,其更包含缩小加热的面积于切掉该组织的任何部份之前。11.如申请专利范围第9项所述之方法,其更包含增大加热的强度于切掉该组织的任何部份之前。12.如申请专利范围第10项所述之方法,其中该加热的面积系使用一个透视聚焦系统而缩小。13.如申请专利范围第10项所述之方法,其中该加热的面积系使用光学纤维而缩小。14.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该制作组织的步骤系包含环醚功能群组之多全氟聚合物的组织。15.如申请专利范围第14项所述之方法,其中该制作组织的步骤系制作多全氟环氧化脂族聚合物的组织。16.如申请专利范围第1到14项任一项所述之方法,其中该涂敷黏着剂的步骤系涂上一种包含环醚功能群组之添加氟素的聚合物。17.如申请专利范围第1到14项任一项所述之方法,其中该涂敷黏着剂的步骤系涂上一种多全氟环氧化脂族聚合物。18.如申请专利范围第16项所述之方法,其中该涂敷多全氟环氧化脂族聚合物黏着剂的步骤系涂敷CTL-816-AP。19.如申请专利范围第15项所述之方法,其中该涂敷多全氟环氧化脂族聚合物组织材料的步骤系涂敷CTX-808-SP2。20.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该制作组织的步骤系制作一种Teflon非晶形全氟聚合物的组织。21.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该制作组织的步骤系制作全氟-2,2-二甲基-1,3-二氧化物(perfluoro-2,2-dimethyl-1,3-dioxole)(PDD)和四氟乙烯的组织。22.如申请专利范围第20项所述之方法,其中该Teflon非晶形全氟聚合物系Teflon AF1600。23.如申请专利范围第20项所述之方法,其中该Teflon非晶形全氟聚合物系Teflon AF1601。24.如申请专利范围第1项所述之方法,其中该容许在黏着剂中的溶剂蒸发的步骤,包含以一昇高的温度烘焙该在其上具黏着剂的框架。图式简单说明:第一图系依据本发明而制造之光学薄膜的上视平面图;第二图系沿着第一图中2-2剖面线的一个放大侧断面视图,而该薄膜组织的夸大宽度乃是为了解释之用;第三图系除了未放大之外,其余则类似第二图,其概略地描绘一个用于进一步结合该组织到框架的雷射;第四图除了显示该雷射系配置以切除该组织的多余部份外,系一个相应于第三图所示的视图;第五图系一个相应于第三图所示的视图,其显示了一种热熔胶之保护珠子的应用,并删除该雷射以简化图示;以及第六图系一个相应于第三图所示的视图,其显示了一种热熔胶之保护带的应用,并删除该雷射以简化图示。 |
