发明名称 スパッタリングターゲット
摘要 Coを含有する金属マトリックス相と、粒子を形成して分散して存在する6〜25mol%の酸化物の相(以下、「酸化物相」という。)から構成されるスパッタリングターゲットであって、XRDの単一ピークの中で最も高いピークの積分幅が0.7以下であることを特徴とするスパッタリングターゲット。スパッタリング時の初期パーティクルの発生を抑制してバーンイン時間を低減するとともに、スパッタする際に安定した放電が得られる非磁性材粒子分散型スパッタリングターゲットを提供する。【選択図】 なし
申请公布号 JPWO2014046040(A1) 申请公布日期 2016.08.18
申请号 JP20140512965 申请日期 2013.09.13
申请人 JX金属株式会社 发明人 池田 祐希
分类号 C23C14/34;G11B5/65;G11B5/851 主分类号 C23C14/34
代理机构 代理人
主权项
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