| 主权项 |
1.一种光学扫描机镜座定位装置,系运用于一具有一壳体及设置于该壳体内之一第一镜座与一第二镜座之光学扫描机、乃用以迳行该二镜座相对位置之修正确认与测试操作,其包括有:一第一框架,系为一至少具有二相对应边臂与一连接该二边臂之底板所构成之平面框架,该底板向下并延伸有一第一定位单元;及一第二框架,系为一具有二相对应侧臂与一连接该二侧臂后端之后横臂所构成之平面框架,该后横臂向下并延伸有一第二定位单元,而该二侧臂之前端则与该第一框架之该二边臂之外侧连接;其特征在于:当该定位装置运用于该扫描机上时,该第一框架与该第二框架恰可以平面之方式、乘坐于该扫描机之该壳体上,而平行设置且具一间距之该第一定位单元与该第二定位单元则伸入该壳体内、并将该扫描机之该第一镜座与该第二镜座限制于该第一定位单元与该第二定位单元间;当该第一镜座抵靠于该第一定位单元时、乃为该第一镜座定位完成,而当该第二镜座抵靠于该第二定位单元时、乃为该第二镜座定位完成。2.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一框架与该第二框架之连接系为枢轴连接者,以使该第二框架可以该枢轴为中心折起。3.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一定位单元系为二长柱者。4.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一定位单元系为一平板者。5.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一定位单元系为一平板者,而该平板上又至少包括一向该第二定位单元方向突起之顶块。6.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一定位单元系为二可变长度之长柱者。7.如申请专利范围第6项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该可变长度之长柱系为一螺旋套管组合。8.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一定位单元上、于抵触该第一镜座之抵触面上,又包括至少一压力感测装置,乃用以监测该第一定位单元与该第一镜座之抵触紧密度。9.如申请专利范围第8项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该压力感测装置系为一压电体装置者。10.如申请专利范围第8项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该压力感测装置系为一顶针装置者。11.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该底板上又包括有一纵贯之透光槽,而于该透光槽上方又设有一光源组,以辅助该光学扫描机之测试。12.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一框架上又包括一个以上之架设座,以作为加设其他辅助装置之架设点。13.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一框架上又包括有一控制单元,以辅助定位装置在该扫描机上之监测与定位操作。14.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第一框架之该二边臂之前端下缘又各设有一向下突出之前缘抵脚,以辅助于该定位装置在该扫描机上之定位。15.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第二定位单元系为一平板者。16.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第二定位单元系为一平板者,而该平板上又至少包括一向该第一定位单元方向突起之顶块。17.如申请专利范围第16项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该定位顶块系以通过该平板上垂直贯穿槽之调整螺栓设于该平板上,以使该定位顶块可藉由该调整螺栓、沿该垂直贯穿槽、作上下位置之调整。18.如申请专利范围第16项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该定位顶块系以通过该平板上水平贯穿槽之调整螺栓设于该平板上,以使该定位顶块可藉由该调整螺栓、沿该水平贯穿槽、作左右位置之调整。19.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第二定位单元上、于抵触该第二镜座之抵触面上,又包括至少一压力感测装置,乃用以监测该第二定位单元与该第二镜座之抵触紧密度。20.如申请专利范围第19项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该压力感测装置系为一压电体装置者。21.如申请专利范围第19项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该压力感测装置系为一顶针装置者。22.如申请专利范围第1项所述之光学扫描机镜座定位装置,其中所述之该第二框架之该二侧臂上、在相对位置上、又各设有一平行臂体之侧调整槽,该后横臂之两侧即利用多数个侧调整钮、将该后横臂于该二侧臂间定位,而该后横臂亦可藉该侧调整钮与该侧调整槽、行水平位置之调整。第一图系为习知光学扫描机镜座一扫描机壳体中之位置示意图。第二图系为本创作之光学扫描机镜座定位装置之最佳实施例之立体示意图。第三图系为本创作光学扫描机镜座定位装置最佳实施例运用于一镜座调整操作之剖面示意图。第四图系为本创作之光学扫描机镜座定位装置之另一实施例之立体示意图。 |
