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经营范围
发明名称
Basic Compound, Resist Composition and Patterning Process
摘要
申请公布号
KR100778636(B1)
申请公布日期
2007.11.27
申请号
KR20040035964
申请日期
2004.05.20
申请人
发明人
分类号
G03F7/039;C07D233/54;C07D233/60;C07D405/06;C09K3/00;G03F7/004;G03F7/038;H01L21/027
主分类号
G03F7/039
代理机构
代理人
主权项
地址
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