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发明名称 SUBSTRATE TREATING APPARATUS AND SUBSTRATE TREATING METHOD AND SUBSTRATE TREATING PROGRAM
摘要
申请公布号 KR20060095504(A) 申请公布日期 2006.08.31
申请号 KR20060018737 申请日期 2006.02.27
申请人 TOKYO ELECTRON LIMITED 发明人 YOSHITAKA OTSUKA;TAKASHI NAKAMITSU
分类号 H01L21/306 主分类号 H01L21/306
代理机构 代理人
主权项
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