发明名称 LASER APPARATUS PHOTOTHERAPEUTIC APPARATUS EXPOSURE APPARATUS DEVICE MANUFACTURING METHOD AND APPARATUS FOR INSPECTING SUBJECT TO BE INSPECTED
摘要 화이버 퓨전이 발생할 가능성을 한층 더 저감시킨다. 레이저 장치 (1) 는, 여기 광원과, 광화이버 (4A, 4B, 4C) 를 통해 여기 광원으로부터 출력되는 여기광을 받아 광증폭을 실시하는 광증폭부를 갖는다. 모니터부는, 여기 광원으로부터 광화이버 (4A, 4B, 4C) 를 통해 광증폭부측으로 전송되어 온 여기광의 파워 레벨을 모니터한다. 제어부는, 여기 광원의 여기광 출력 개시 당초에 있어서 여기 광원에 소정 파워 레벨의 여기광을 출력시킨 후에, 여기 광원으로부터 소정 파워 레벨의 여기광이 출력되고 있을 때에 모니터부에 의해 모니터된 파워 레벨이 소정값보다 높은 경우에, 소정 파워 레벨보다 높은 파워 레벨의 여기광을 출력시키는 한편, 여기 광원으로부터 소정 파워 레벨의 여기광이 출력되고 있을 때에 모니터부에 의해 모니터된 파워 레벨이 소정값 이하인 경우에, 여기광의 출력을 정지시킨다.
申请公布号 KR101650212(B1) 申请公布日期 2016.08.22
申请号 KR20117006318 申请日期 2009.08.18
申请人 가부시키가이샤 니콘 发明人 다카다 야스토시;도쿠히사 아키라
分类号 A61B18/20;A61F9/007;G03F7/20;H01S3/10 主分类号 A61B18/20
代理机构 代理人
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